隨著我國知識體系不斷地被完善，越來越多的朋友也開始注重商標(biāo)專利的戰(zhàn)略布局、經(jīng)營管理以及維權(quán)保護。畢竟專利技術(shù)是企業(yè)參與市場競爭、謀求長期發(fā)展、形成競爭優(yōu)勢的利器。但我們也應(yīng)看到，不少人對專利申請仍存在著諸多誤區(qū)，下面廣州專利申請小編就為大家說一說專利申請的雷區(qū)。
誤區(qū)一、產(chǎn)品投入大規(guī)模生產(chǎn)后才申請專利
誤區(qū)一、產(chǎn)品投入大規(guī)模生產(chǎn)后才申請專利
很多企業(yè)都有這樣的想法：技術(shù)方案還未投入生產(chǎn)，也沒有產(chǎn)品問世，此時申請專利為時過早，等產(chǎn)品大規(guī)模投入生產(chǎn)后再申請專利更合適。但其實專利申請的基礎(chǔ)不應(yīng)該是已經(jīng)在市場上存在的產(chǎn)品，也不一定是已經(jīng)成型的產(chǎn)品。只要有了切實可行的想法，就可以著手專利申請文件的撰寫了。
誤區(qū)二、專利產(chǎn)品的改進(jìn)不需再申請專利
有部分發(fā)明人認(rèn)為申請了一項專利后，就可“高枕無憂”，從而忽視了后期的繼續(xù)研發(fā)工作，即使開發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進(jìn)，也不再申請專利。這種錯誤認(rèn)識的后果不異于未申請專利。因為當(dāng)他人對該產(chǎn)品有了改進(jìn)并申請專利，反過來就限制了原專利權(quán)人產(chǎn)品的更新?lián)Q代，這就會導(dǎo)致企業(yè)在不經(jīng)意間反而變成侵權(quán)方。
誤區(qū)三、技術(shù)方案交待不清楚
很多企業(yè)的發(fā)明人提交的技術(shù)交底書非常簡單，有的甚至只有幾句話，技術(shù)方案完全沒有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請文件帶來很大困難。專利代理人在要求發(fā)明人提供更多的技術(shù)方案時，他們會以技術(shù)保密為由回避，表明這些發(fā)明人沒有把握好保密與公開的度。他們只是一味要求保密，害怕多透露技術(shù)信息，而恰恰忽視了公開不充分的問題。
誤區(qū)四、先發(fā)表論文或成果鑒定再申請專利
有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護。發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術(shù)內(nèi)容，會導(dǎo)致專利申請失去新穎性而得不到保護。
誤區(qū)五、一個產(chǎn)品僅僅申請一個專利
有的申請人或者發(fā)明人認(rèn)為，一個產(chǎn)品只需要申請一個專利即可，要么是發(fā)明專利，要么是外觀專利或者實用新型專利。這其實是對專利有誤解所致。專利分為發(fā)明專利、實用新型和外觀專利三種，保護的側(cè)重點并不一樣。
發(fā)明是指對產(chǎn)品、方法或者其改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案，一般需要兩年左右獲得授權(quán)。實用新型是指對產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實用的新的技術(shù)方案，一般8個月左右獲得授權(quán)。
外觀設(shè)計是指對產(chǎn)品的形狀、圖案或者其結(jié)合以及色彩與形狀、圖案的結(jié)合所作出的富有美感并適于工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計，一般3個月左右獲得授權(quán)。同一個產(chǎn)品，完全可以申請多個專利，產(chǎn)品外形、結(jié)構(gòu)或者工藝方案如有不同，具有足夠的創(chuàng)造性和新穎性，就能同時申請多類型或者多個專利，從不同角度獲得授權(quán)保護。
誤區(qū)六、專利申請前不做任何檢索
有些發(fā)明人提交的專利申請文件沒有做查新檢索，無法確定技術(shù)方案的新穎性，根本不知道其技術(shù)方案是否公開過，授權(quán)前景岌岌可危。同時，專利質(zhì)量和權(quán)利要求的范圍，也無法得到保障，專利新申請的價值也會大打折扣。因此在專利新申請之前，一定要對技術(shù)方案進(jìn)行查新檢索，不做任何檢索就直接提交申請，只是浪費時間、金錢和精力。
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